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微納光刻技術(shù)雜志 微納光刻技術(shù)雜志

微納光刻技術(shù)雜志

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

出版商:SPIE

出版語言:English

出版地區(qū):UNITED STATES

出版周期:Quarterly

ISSN:1932-5150

E-ISSN:1932-5134

創(chuàng)刊時間:2007

是否OA:未開放

是否預警:否

大類學科:物理與天體物理

小類學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC

年發(fā)文量:0

研究類文章占比:0.00%

Gold OA文章占比:7.69%

收稿方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
學術(shù)咨詢:預計審稿周期: 較慢,6-12周   CiteScore:3.4

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期刊簡介

《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》(JM3)發(fā)表同行評審的論文,內(nèi)容涉及光刻、制造、封裝和集成技術(shù)的科學、開發(fā)和實踐,這些技術(shù)對于滿足電子、微機電系統(tǒng)、微光機電系統(tǒng)和光子學行業(yè)的需求必不可少。

微納光刻技術(shù)雜志創(chuàng)刊于2007年,由SPIE出版社出版。其研究的主題領(lǐng)域包括但不限于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,是一本在物理與天體物理領(lǐng)域具有重要影響力的國際期刊。該期刊涵蓋了物理與天體物理的多個子領(lǐng)域,旨在全面理解和解決物理與天體物理問題。

根據(jù)最新的數(shù)據(jù),微納光刻技術(shù)雜志CiteScore為3.4,h-index為37,SJR為0.393,SNIP為1.723,中科院分區(qū)為2區(qū),這些指標均顯示了該期刊在物理與天體物理領(lǐng)域的優(yōu)秀地位。

該刊以English作為出版語言。對于English非母語的作者,期刊建議使用語言編輯服務,以確保文稿的語法和拼寫錯誤得到糾正,并符合科學English的標準。如果想實現(xiàn)快速順利的投稿發(fā)表,建議您聯(lián)系本站的客服團隊,將為您提供專業(yè)的選刊建議,并在整個投稿過程中提供細致的指導。

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期刊數(shù)據(jù)

期刊評價指數(shù)報告
年發(fā)文量報告

*期刊發(fā)文量是一個量化的指標,用于衡量期刊的出版活動和學術(shù)影響力。

*綜述文章是一種特定的學術(shù)文體,專門用來回顧和總結(jié)某一領(lǐng)域或主題的現(xiàn)有研究成果和理論進展。

*發(fā)文量和綜述量都在學術(shù)出版中都扮演著重要的角色,但關(guān)注的焦點和目的不同。

期刊評價

CiteScore(2024年最新版)
  • CiteScore:3.4
  • SJR:0.393
  • SNIP:1.723
學科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 299 / 672

55%

大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

51%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

49%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

48%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

45%

中科院分區(qū) 2023年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū) 2022年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2021年12月升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版
大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

*中科院期刊分區(qū)表是中國科研界廣泛認可的期刊評價體系,是由中國科學院文獻情報中心科學計量中心編制的一套期刊評價體系,在中國的科研界具有較高的認可度和影響力,常被用作科研項目評審、職稱評定、學術(shù)評價等方面的參考依據(jù)。

JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)
按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

32.2%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

25.6%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

15.4%

學科:OPTICS SCIE Q3 68 / 100

32.5%

期刊常見問題

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊的學術(shù)評價如何?

該期刊是一本由SPIE出版社出版的學術(shù)期刊,屬于JCR分區(qū)中學科領(lǐng)域的區(qū)期刊,中科院分區(qū)為物理與天體物理學科領(lǐng)域2區(qū)。該期刊的ISSN為1932-5150,近一年未被列入預警期刊名單,是一本國際優(yōu)秀期刊。

該期刊收稿方向是什么?

該期刊涉及的研究領(lǐng)域是ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY,在中科院分區(qū)表中大類學科為SPIE,小類學科為SPIE,在準備向該期刊投稿時,請確保您的研究內(nèi)容與期刊的研究領(lǐng)域緊密相關(guān)至關(guān)重要。

該期刊近幾年影響因子高嗎?審稿周期長嗎?

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊2023年的影響因子是0,2022年的影響因子是2,該期刊審稿周期預計需要約 較慢,6-12周 ,為了確保您的投稿過程順利進行,請合理規(guī)劃時間投稿。

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免責聲明

若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。

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