等離子化學(xué)和等離子處理
出版商:Springer US
出版語言:English
出版地區(qū):UNITED STATES
出版周期:Quarterly
ISSN:0272-4324
E-ISSN:1572-8986
創(chuàng)刊時(shí)間:1981
是否OA:未開放
是否預(yù)警:否
中科院 2023年12月升級(jí)版:中科院分區(qū)3區(qū) 大類學(xué)科:物理與天體物理
收稿方向:工程技術(shù)-工程:化工
學(xué)術(shù)咨詢:預(yù)計(jì)審稿周期: 較慢,6-12周 影響因子:2.6 CiteScore:5.9
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本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應(yīng)用(包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè))、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動(dòng)力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。
等離子化學(xué)和等離子處理創(chuàng)刊于1981年,由Springer US出版社出版。其研究的主題領(lǐng)域包括但不限于工程技術(shù)-工程:化工,是一本在物理與天體物理領(lǐng)域具有重要影響力的國際期刊。該期刊涵蓋了物理與天體物理的多個(gè)子領(lǐng)域,旨在全面理解和解決物理與天體物理問題。
根據(jù)最新的數(shù)據(jù),等離子化學(xué)和等離子處理的影響因子為2.6,CiteScore為5.9,h-index為57,SJR為0.48,SNIP為0.912,中科院分區(qū)為3區(qū),這些指標(biāo)均顯示了該期刊在物理與天體物理領(lǐng)域的優(yōu)秀地位。
該刊以English作為出版語言。對(duì)于English非母語的作者,期刊建議使用語言編輯服務(wù),以確保文稿的語法和拼寫錯(cuò)誤得到糾正,并符合科學(xué)English的標(biāo)準(zhǔn)。如果想實(shí)現(xiàn)快速順利的投稿發(fā)表,建議您聯(lián)系本站的客服團(tuán)隊(duì),將為您提供專業(yè)的選刊建議,并在整個(gè)投稿過程中提供細(xì)致的指導(dǎo)。
*期刊發(fā)文量是一個(gè)量化的指標(biāo),用于衡量期刊的出版活動(dòng)和學(xué)術(shù)影響力。
*綜述文章是一種特定的學(xué)術(shù)文體,專門用來回顧和總結(jié)某一領(lǐng)域或主題的現(xiàn)有研究成果和理論進(jìn)展。
*發(fā)文量和綜述量都在學(xué)術(shù)出版中都扮演著重要的角色,但關(guān)注的焦點(diǎn)和目的不同。
學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics | Q1 | 108 / 434 |
75% |
大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films | Q2 | 34 / 132 |
74% |
大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemical Engineering | Q2 | 79 / 273 |
71% |
大類:Physics and Astronomy 小類:General Chemistry | Q2 | 119 / 408 |
70% |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
物理與天體物理 | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 | 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
*中科院期刊分區(qū)表是中國科研界廣泛認(rèn)可的期刊評(píng)價(jià)體系,是由中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心科學(xué)計(jì)量中心編制的一套期刊評(píng)價(jià)體系,在中國的科研界具有較高的認(rèn)可度和影響力,常被用作科研項(xiàng)目評(píng)審、職稱評(píng)定、學(xué)術(shù)評(píng)價(jià)等方面的參考依據(jù)。
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q3 | 91 / 170 |
46.8% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 12 / 40 |
71.3% |
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL | SCIE | Q2 | 55 / 171 |
68.13% |
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 69 / 179 |
61.73% |
學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q2 | 17 / 40 |
58.75% |
該期刊是一本由Springer US出版社出版的學(xué)術(shù)期刊,屬于JCR分區(qū)中學(xué)科領(lǐng)域的區(qū),學(xué)科領(lǐng)域的區(qū),學(xué)科領(lǐng)域的區(qū)期刊,中科院分區(qū)為物理與天體物理學(xué)科領(lǐng)域3區(qū)。該期刊的ISSN為0272-4324,近一年未被列入預(yù)警期刊名單,是一本國際優(yōu)秀期刊。
該期刊涉及的研究領(lǐng)域是工程技術(shù)-工程:化工,在中科院分區(qū)表中大類學(xué)科為Springer US,小類學(xué)科為Springer US,在準(zhǔn)備向該期刊投稿時(shí),請(qǐng)確保您的研究內(nèi)容與期刊的研究領(lǐng)域緊密相關(guān)至關(guān)重要。
Plasma Chemistry And Plasma Processing期刊2023年的影響因子是2.6,2022年的影響因子是3.6,該期刊審稿周期預(yù)計(jì)需要約 較慢,6-12周 ,為了確保您的投稿過程順利進(jìn)行,請(qǐng)合理規(guī)劃時(shí)間投稿。
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